- бизнес-книги
- детские книги
- дом, дача
- зарубежная литература
-
знания и навыки
- изучение языков
- компьютерная литература
- научно-популярная литература
- словари, справочники
-
учебная и научная литература
- безопасность жизнедеятельности
- военное дело
- гуманитарные и общественные науки
- естественные науки
- задачники
- монографии
- научные труды
- практикумы
- прочая образовательная литература
- сельское и лесное хозяйство
-
технические науки
- высокие технологии
- горное дело
- информатика и вычислительная техника
- конструкции
- легкая промышленность
- материаловедение
- машиностроение
- нормативная документация
- общетехнические дисциплины
- основы производства
- пищевая промышленность
- приборостроение
- проектирование
- промышленность
- радиоэлектроника
- строительство
- техническая литература
- технологии металлов
- транспорт
- химическая технология
- эксплуатация промышленного оборудования
- энергетика
- учебники и пособия для вузов
- учебники и пособия для ссузов
- учебно-методические пособия
- история
- комиксы и манга
- легкое чтение
- психология, мотивация
- публицистика и периодические издания
- родителям
- серьезное чтение
- спорт, здоровье, красота
- хобби, досуг
William S. Rees, Jr. — CVD of Nonmetals
Купить и скачать за 28991.37 ₽
Понравилась книга? Поделись в соцсетях:
Автор: William S. Rees, Jr.
Издатель: John Wiley & Sons Limited
ISBN: 9783527614806
Описание: Written by leading experts in the field, this practical reference handbook offers an up-to-date, critical survey of the chemical vapor deposition (CVD) of nonmetals, a key technology in semiconductor electronics, finishing, and corrosion protection. The basics necessary for any CVD process are discussed in the introduction. In the following chapters, precursor requirements, with an emphasis on materials chemistry, common structures of reactants and substrates, as well as reaction control are discussed for a broad range of compositions including superconducting, conducting, semiconducting, insulating and structural materials. Technological issues, such as reactor geometries and operation parameters, are assessed and the viability of the method, both technically and economically, is compared with other techniques for the preparation of thin films. Relevant materials and technical data are collected in tables throughout. An extensive glossary, list of abbreviations and acronyms, and over 1400 references round off this impressive work. The 'CVD of Nonmetals' offers a stimulating combination of basic concepts and practical applications. Materials scientists, solid-state and organometallic chemists, physicists, engineer, as well as graduate students will find this book of enomous value.