- бизнес-книги
- детские книги
- дом, дача
- зарубежная литература
-
знания и навыки
- изучение языков
- компьютерная литература
- научно-популярная литература
- словари, справочники
-
учебная и научная литература
- безопасность жизнедеятельности
- военное дело
- гуманитарные и общественные науки
- естественные науки
- задачники
- монографии
- научные труды
- практикумы
- прочая образовательная литература
- сельское и лесное хозяйство
-
технические науки
- высокие технологии
- горное дело
- информатика и вычислительная техника
- конструкции
- легкая промышленность
- материаловедение
- машиностроение
- нормативная документация
- общетехнические дисциплины
- основы производства
- пищевая промышленность
- приборостроение
- проектирование
- промышленность
- радиоэлектроника
- строительство
- техническая литература
- технологии металлов
- транспорт
- химическая технология
- эксплуатация промышленного оборудования
- энергетика
- учебники и пособия для вузов
- учебники и пособия для ссузов
- учебно-методические пособия
- история
- комиксы и манга
- легкое чтение
- психология, мотивация
- публицистика и периодические издания
- родителям
- серьезное чтение
- спорт, здоровье, красота
- хобби, досуг
Toivo Kodas T. — The Chemistry of Metal CVD
Купить и скачать за 26556.09 ₽
Понравилась книга? Поделись в соцсетях:
Автор: Toivo Kodas T.
Издатель: John Wiley & Sons Limited
ISBN: 9783527615841
Описание: High purity, thin metal coatings have a variety of important commercial applications, for example, in the microelectronics industry, as catalysts, as protective and decorative coatings as well as in gas-diffusion barriers. This book offers detailed, up- to-date coverage of the chemistry behind the vapor deposition of different metals from organometallic precursors. In nine chapters, the CVD of metals including aluminum, tungsten, gold, silver, platinum, palladium, nickel, as well as copper from copper(I) and copper(II) compounds is covered. The synthesis and properties of the precursors, the growth process, morphology, quality and adhesion of the resulting films as well as laser- assisted, ion- assisted and plasma-assisted methods are discussed. Present applications and prospects for future developments are summarized. With ca. 1000 references and a glossary, this book is a unique source of in-depth information. It is indispensable for chemists, physicists, engineers and materials scientists working with metal- coating processes and technologies. From Reviews: 'I highly recommend this book to anyone interested in learning more about the chemistry of metal CVD.' J. Am Chem. Soc.